等離子清洗機(jī)清洗不均勻有哪些可能原因

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-05-26

隨著技術(shù)水平的不斷更新迭代，以及各生產(chǎn)廠家對產(chǎn)品潔凈度要求的不斷提高，清洗工藝逐步由濕法向干法轉(zhuǎn)變。干法清洗通過氣體形成的等離子體在工件表面發(fā)生作用，不需要經(jīng)化學(xué)試劑浸泡，也不用烘干，過程更加潔凈安全。清洗過程也方便控制，工作環(huán)境及人員安全明顯改善，在成本有效減少的同時(shí)，產(chǎn)品成品率及優(yōu)品率也得到很大提高，目前已成為各半導(dǎo)體產(chǎn)品領(lǐng)域廣泛應(yīng)用的技術(shù)。隨著等離子清洗技術(shù)的大量運(yùn)用，等離子清洗機(jī)在清洗時(shí)有時(shí)也會(huì)出現(xiàn)清洗不均勻的現(xiàn)象，下面就讓我們一起來看下有哪些因素影響等離子清洗均勻性。

電極間距對等離子清洗均勻性的影響

電極的布局對等離子清洗的速度和均勻性有較大影響，較小的電極間距能夠?qū)⒌入x子體限制在狹小的區(qū)域從而獲得較高密度的等離子體，實(shí)現(xiàn)較快速度的清洗。隨著間距的增加清洗速度逐漸下降但均勻性逐漸增強(qiáng)。

圓孔極板可提高等離子體清洗的均勾性

出現(xiàn)上述現(xiàn)象的原因：一方面是由于大量等離子體通過圓孔極板到達(dá)極板下方形成下游等離子體，這使得等離子體的放電區(qū)域增加，從而降低了單位體積內(nèi)等離子體的吸收功率密度；另一方面，分布在極板上的圓孔改變了等離子體內(nèi)部的電場分布，使得等離子體內(nèi)部電場分布更加均匆。而等離子體的內(nèi)部電場對等離子體的均勻性有非常重要的作用、因此，提高等離子體內(nèi)部電場的均勾性，有利于于提高等離子體的均勻性。

極板數(shù)量對等離子清洗均勻性的影響

在放電功率不變的情況下，增加極板的數(shù)量可提高等離子體的均勾性，但降低等離子體的電子溫度、電子密度和電子能量密度。因此，多對放電極板不僅提高等離子體的均勾性，還成倍的增加了基片的裝載量，可大大提高產(chǎn)能，尤其適用于實(shí)際生產(chǎn)中，具有廣泛的應(yīng)用前景。

功率對等離子清洗均勻性的影響

高功率只能獲得低均勾性的等離子體。這主要是由于±加等離子體的放電功率，等離子體在極板邊緣附近產(chǎn)生了更強(qiáng)的自感電場，使得等離子體內(nèi)部電場變得更不均匆，從而降低了等離子體的均勻性。

氣體流向?qū)Φ入x子清洗均勻性的影響

工藝氣體流向決定工藝氣體在清洗倉體中的整個(gè)氣流覆蓋區(qū)域，進(jìn)而決定離子體具體位置，對待清洗工件清洗效果有根本性的影響。在設(shè)計(jì)時(shí)，合理控制倉體中的氣體流向就對清洗效果顯得尤為重要，進(jìn)出氣口的多少、位置直接決定了倉體內(nèi)的氣體流向，也直接影響了待清洗工件的清洗效果。

在等離子清洗的過程中，有效地控制倉體內(nèi)部工藝氣體的流向，讓氣體均勻地充滿整個(gè)倉體，在射頻電源的激發(fā)下，形成的離子體也在倉體內(nèi)部均勻分部，對待清洗工件的清洗均勻性及優(yōu)良性有大幅度改善。拿半導(dǎo)體料盒清洗來說，應(yīng)該讓料盒的排布順應(yīng)氣體的流向，讓氣體均勻流通在料盒的各個(gè)位置，有利于獲得封裝組裝工藝的高質(zhì)量控制。

以上就是國產(chǎn)等離子清洗機(jī)廠家納恩科技，關(guān)于等離子清洗不均勻有哪些可能原因的簡單介紹，對提高等離子清洗均勻性提供了一定的改進(jìn)方向。提高等離子清洗均勻性的最佳方法是減小電場的邊緣效應(yīng)。圓孔極板可獲得均勻性最高的等離子體，但同時(shí)會(huì)降低等離子體的電子溫度、電子密度和電子能量密度；增加放電極板數(shù)量，可提高等離子體的均勾性和基片產(chǎn)能，但降低了等離子體的電子溫度、電子密度和電子能量密度；增加極板間距，可增加等離子體的均勻性。另一方面，放電參數(shù)對等離子體的影響結(jié)果也進(jìn)一步證實(shí)了，等離子體的內(nèi)部電場分布影響著等離子體的均勾性。髙功率可產(chǎn)生較強(qiáng)的邊緣效應(yīng)，使得等離子體的均勻性較低，但等離子體的電子密度和電子能量密度較高；氣壓對等離子體的內(nèi)部電場影響較小，對等離子體均勻性影響較小，隨著氣壓的增加，電子溫度、電子密度和電子密度先增加后降低。