常壓plasma等離子清洗設(shè)備噴嘴（火焰）高度多少合適？

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-09-19

大氣常壓等離子清洗設(shè)備是由等離子體發(fā)生器、氣體輸送管路及等離子體噴頭等部分組成。等離子體發(fā)生器產(chǎn)生高壓高頻能量，在噴嘴鋼管中形成冷電弧放電產(chǎn)生低溫等離子體，借助壓縮空氣將等離子體噴向工件表面，當?shù)入x子體與被處理物體表面相遇時，產(chǎn)生了清潔、活化、刻蝕作用，表面得到了清潔，去除了碳化氫類污物，如油脂、輔助添加劑等，根據(jù)材料成分，其表面分子鏈結(jié)構(gòu)得到了改變，建立了羥基、羧基等自由基團，這些基團對各種涂敷材料具有促進其粘合的作用。在材料表面處理的效果良好，應用廣泛。

常壓等離子清洗設(shè)備采用輝光放電，通過調(diào)整參數(shù)，如處理高度、處理時間、氣體種類、功率、氣體流量以尋找最佳的處理條件。

處理速度
處理速度是指等離子清洗設(shè)備噴頭的移動速度，處理速度范圍為1m/min~200m/min。隨著處理速度的提高，等離子處理效果會逐漸減弱。

處理功率
處理功率，是指等離子發(fā)生器的功率，隨著等離子體反應功率的增加,材料表面的刻蝕率隨之增加,,這是因為在較大的功率下氣體分子被激發(fā)生成等離子體后,單個等離子體粒子所攜帶的能量更高,飛行速度也較大,對材料表面的撞擊更劇烈,使得等離子體與材料表面反應的更加徹底,更多的大分子被打斷形成的小分子,進一步氧化成氣體分子揮發(fā)到周圍環(huán)境中,使材料的刻蝕率得到明顯的改善。

處理高度
處理高度是指等離子清洗設(shè)備噴嘴距離被處理物體的高度，處理高度有效范圍一般為0-10mm。

隨著等離子處理過程中噴頭與樣品距離的增加,處理效果相應減小。這可以解釋為等離子噴頭與材料表面距離小的時候,噴頭里流出的氣體粒子會被材料表面阻擋,因此粒子與材料表面的碰撞摩擦增加,一部分粒子甚至被材料表面反射回去。由于這些高能量粒子不斷的與材料表面碰撞,會造成材料表面的分子鏈斷裂,進一步被氧化成可揮發(fā)性物質(zhì)脫離材料表面,這樣就增加了材料的刻蝕率。當噴頭高度過高時,噴頭流出來的粒子沒有受到阻擋,會逸散到周圍的空氣中,粒子攜帶的能量流失,對材料的作用微弱,刻蝕率因而降低一。

以上資料由國產(chǎn)等離子清洗設(shè)備廠家納恩科技整理編輯，有不少客戶在使用大氣常壓等離子清洗設(shè)備（plasma）時，會隨意調(diào)整噴嘴（火焰）與被處理物表面距離(高度)，這是錯誤的，噴嘴與被處理物距離是重要參數(shù)之一，它會大幅影響處理結(jié)果，一般建議常壓等離子清洗設(shè)備的噴嘴高度為2-5mm時處理效果比較好。